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Skyphos推出“加法光刻”平台,突破3D打印微针制造瓶颈,单次曝光两秒成型
Skyphos推出“加法光刻”平台,通过软件定义掩模实现微针阵列的单次曝光快速成型,无需模具即可定制几何形状与材料分布。该技术为药物递送、诊断检测等领域提供了从原型到量产的高效解决方案,并正拓展多材料封装与可编程设备开发。
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04-11 15:29
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