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ARC离子源

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从10天到1天:LLNL用双光子聚合整体打印NIF聚变靶关键组件
该工艺把CPC从多步机加工转为一体化微纳打印,省去镀金,并满足NIF对微米特征和表面粗糙度的严苛要求;打印件经对比实验验证后已用于离子快点火新靶,还展现出燃料胶囊晶格等复杂构型的拓展空间。
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