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LLNL与斯坦福大学在《自然》发表革命性3D纳米制造技术，通过金属透镜阵列将双光子光刻效率提升千倍，实现厘米级区域内12万光束并行写入，精度达113纳米。这项名为“自适应超表面光刻”的技术突破传统拼接限制，可同步制造复杂三维结构，为微流控、量子计算等前沿领域提供产业化解决方案。

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01-08 21:09