Nanoscribe上海技术示范实验室落成:将“实验室到工厂”转型引入中国微纳制造
德国企业携新一代双光子激光直写光刻技术登陆中国市场,为中国用户提供实地体验。该实验室配备Quantum X align双光子光刻系统,通过双光子灰度与对准技术实现高精度微加工,将打印速度提升数十倍,并支持在光纤及晶圆上直接制造,助力中国客户加速从科研到产业化的转化。
01-19 21:34


京公网安备11010802046387号