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Martin Hermatschweiler

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Nanoscribe上海技术示范实验室落成:将“实验室到工厂”转型引入中国微纳制造
德国企业携新一代双光子激光直写光刻技术登陆中国市场,为中国用户提供实地体验。该实验室配备Quantum X align双光子光刻系统,通过双光子灰度与对准技术实现高精度微加工,将打印速度提升数十倍,并支持在光纤及晶圆上直接制造,助力中国客户加速从科研到产业化的转化。
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01-19 21:34
从实验室到生产线:Nanoscribe售出400套系统,工业客户占三分之一
Nanoscribe宣布全球销量突破400套,工业客户占比达三分之一。其双光子聚合技术凭借100纳米精度推动光子学封装增长,Quantum X系统助力半导体/光子集成电路制造。公司通过完整产线解决方案持续强化市场领先地位。
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25-12-18 07:44
AM易道招聘编辑 招募AM易道行业合伙人