全球纳米级3D打印市场领导者Nanoscribe近期在中国上海正式开设了其Quantum X技术示范实验室。

此次设立上海demolab的战略举措，正值全球工业需求不断增长之际，旨在将下一代3D微细加工技术引入中国市场。

Nanoscribe首席执行官兼联合创始人Martin Hermatschweiler表示，该实验室代表了公司对中国市场长期承诺的一个里程碑，其目标是积极支持客户实现从“实验室到工厂”的转型。



该实验室的核心是展示其Quantum X align系统，这是一款高性能双光子光刻系统，专为高分辨率3D激光光刻设计。

该系统具备在光纤、芯片和晶圆上的自动对准功能，旨在应对高精度微细加工中的关键挑战。

该设施现已全面投入运营，将为本地工业客户提供一个专门的环境，用于进行动手技术评估、协作研究、培训以及应用开发支持。

在上海实验室的开业活动中，Nanoscribe进行了Quantum X align系统的现场演示。

该系统采用了公司的两项专有增材制造光刻技术：双光子灰度光刻和对准式双光子光刻。

据公司介绍，双光子灰度光刻技术可在单次扫描过程中实现连续体素调制，相比传统方法，能将打印速度提升10到60倍。

而对准式双光子光刻技术则能够直接在现有部件和预图案化的基板（如光纤、光子芯片和晶圆）上进行精密3D打印。

该技术声称能达到相对于标记和对准标志100纳米以下的横向对准精度，并能实现可扩展的光子封装工作流程。

Nanoscribe表示，通过提供高通量双光子光刻仪器的使用机会，公司旨在使客户能够加速开发周期，弥合从学术概念验证到工业规模生产的差距。

这一举措是基于对中国市场蓬勃发展的光子学、光学和先进制造生态系统的认可。