Quantum X

下面是所有关联了此标签的内容

列表展示

详情展示

UpNano推出3DAR技术，以连续体素形态控制取代分层切换，在曲面打印中消除阶梯效应，兼顾精度与速度，表面粗糙度低至3nm。该技术直接打印微光学元件至芯片或光纤，瞄准硅光子与共封装需求，推动2PP从实验室走向量产。

反对

10-13 19:17

德国企业携新一代双光子激光直写光刻技术登陆中国市场,为中国用户提供实地体验。该实验室配备Quantum X align双光子光刻系统，通过双光子灰度与对准技术实现高精度微加工，将打印速度提升数十倍，并支持在光纤及晶圆上直接制造，助力中国客户加速从科研到产业化的转化。

反对

01-19 21:34

Nanoscribe，作为3D打印机和灰度光刻系统制造商，已达成第400台系统的销售，并预计将在2025年实现稳健的财务业绩。

反对

25-12-19 20:49