美国专利商标局于2025年9月23日正式授予Boston Micro Fabrication（BMF）第12,420,486 B2号专利，该专利涵盖其创新的“多尺度投影微立体光刻系统”。

这项专利保护了BMF microArch D1025 3D打印机所采用的双分辨率光学系统，该系统在单一光路中整合了10微米和25微米两种不同成像倍率的投影透镜。

通过动态切换分辨率，该技术能够在大尺寸成型区域内同时实现微米级精度和高效生产，为制造具有精细特征和大尺寸几何形状的微零件提供了突破性解决方案。



据BMF首席执行官John Kawola表示，这一双分辨率架构实现了速度与精度的独特结合，巩固了公司在超高精度增材制造领域的领导地位。

该系统可自动为关键特征分配10微米曝光，为大面积区域分配25微米曝光，在显著减少打印时间的同时保持一致的尺寸精度。

专利发明人夏春光博士和徐佳文博士所属的BMF中国母公司深圳摩方材料科技有限公司拥有该项专利权。夏博士强调，这项技术是“具有长期微尺度生产意义的光学进展”，并称其为支持下一代微制造设备的平台。

BMF专有的投影微立体光刻技术利用数字光投影逐层固化光敏树脂，可制造小至数微米的特征，广泛应用于医疗、电子、光子、微流控和研究领域。

作为2024年推出的首款商用双分辨率3D打印机，microArch D1025已被医疗、电子和研究领域的制造商采用，特别适用于需要精细特征和大尺寸支撑结构的应用场景。

随着美国专利的授予，BMF计划将这一双分辨率设计扩展至未来产品线，进一步扩大其在精密增材制造领域的影响力。